Photomasque en verre de soude

Caractéristique:

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Affichage physique des produits de lithographie photomasque en verre

Les données graphiques du masque sont conçues et soumises par l'utilisateur, et la technologie de traitement ultérieure est complétée par l'ingénieur. Étant donné que la préparation des données graphiques est une étape clé du traitement des masques, les utilisateurs sont tenus de vérifier attentivement les fichiers de mise en page soumis pour s'assurer de l'exactitude des graphiques.

Processus de fabrication :

(1) Dessinez un fichier de mise en page du réticule de masque (format GDS) qui peut être reconnu par le dispositif de génération
2) Utilisez une machine de lithographie sans masque pour lire le fichier de mise en page, effectuez une exposition sans contact (longueur d'onde d'exposition 405 nm) sur le réticule vierge avec de la colle, et illuminez la zone de motif requise sur le réticule pour créer la résine photosensible dans cette zone. (généralement de la colle positive) subit une réaction photochimique
3) Après développement et fixation, la résine photosensible dans la zone exposée se dissout et tombe, exposant la couche de chrome sous-jacente
4) Utilisez une solution de gravure au chrome pour la gravure humide, gravez la couche de chrome exposée pour former une zone de transmission de la lumière, et la couche de chrome protégée par le photorésist ne sera pas gravée, formant une zone opaque. De cette manière, des structures de motifs plans avec différentes transmissions de lumière sont formées sur le réticule.
5) Si nécessaire, utilisez des méthodes humides ou sèches pour retirer la couche de résine photosensible sur le réticule et nettoyez le réticule.

Photos de l'exposition

Certificat:

http://fr.calibplate-zhixing.com/